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领先的研究中心进行的安装标志着XLR技术的日益普及

Cymer,Inc., 世界'半导体光刻领域领先的光源供应商今天宣布,该公司已在IMEC上安装了XLR 500i光源,IMEC是一个领先的研究中心,汇集了世界领先的IC制造商,代工厂和供应商共同开发解决方案,以应对未来的半导体技术扩展。 IMEC研究前沿技术,帮助成员在开发周期的早期缩小技术选择范围。 XLR 500i是世界'的首款用于45nm生产浸没式光刻的氟化氩(ArF)激光光源,并采用了新的激光架构,可将脉冲能量稳定性提高1.5倍,从而改善了剂量控制,提高了产量和生产率,并显着降低了拥有成本与上一代ArF产品相比。

XLR系统’与XLA系列激光器相比,创新的循环环技术延长了关键模块的使用寿命,从而使运营成本降低了20%。改进的脉冲能量稳定性使得每次曝光可使用更少的脉冲,从而可以进一步降低操作成本并提高扫描仪吞吐量。

“Cymer将先进系统推向市场的悠久历史。 45nm的生产和32nm的工艺开发需要性能得到改善的光源。我们期待与Cymer合作,向我们的核心芯片制造商合作伙伴展示XLR光源将提供的好处,”IMEC高级平版印刷项目总监Kurt Ronse说。

Cymer在为高级深紫外(DUV)浸泡应用提供高性能光源方面处于业界领先地位,Cymer于2006年7月首次推出XLR系统。迄今为止,XL系列产品已交付500多套,已被业界采用。作为下一代ArF光刻的标准光源。 XLR 500i还可以升级到90W配置– the XLR 600i –凭借在技术上的重大进步,以更低的运营成本提高了性能稳定性和可用性,该技术可实现在32nm节点及以后的体积浸没和双图案光刻的扩展性。

"此安装进一步验证了芯片制造商和整个行业对XLR技术的接受程度,"Cymer总裁兼首席运营官Ed Brown说。"在IMEC的帮助下,我们希望继续发展光刻技术,并探讨光源可以为性能和生产率提高做出贡献的方式。 IMEC为芯片制造商成员提供早期学习和竞争前的研究与开发,因此Cymer将有机会向其主要的半导体合作伙伴展示XLR技术的好处。"

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