Cymer验证​​了浸没式光刻系统的新光源

Cymer是开发用于芯片制造商以对先进的半导体芯片进行图案化的光刻光源的行业领导者,今天宣布其第七代光源XLR 960ix已通过ASML NXT:2050i扫描仪的认证。它具有改进硬件控制的新硬件进步,以及先进的氟化氩(ArF)浸没式光刻系统的可用性,可持续性和生产率。

“随着芯片制造商继续在混合匹配制造环境中将ArF浸入式光源与EUV光源一起使用,满足相同的过程控制要求变得越来越重要,” Cymer产品开发小组副总裁David Knowles说。 “XLR 960ix设计可减少斑点(光源的自然现象),以减少线宽粗糙度,从而有助于改善整体边缘放置误差。”

XLR 960ix具有新的光脉冲展宽器,该光展幅器可以增加脉冲持续时间以减少30%的斑点,从而改善局部CDU。光源固有地会产生斑点,这是一种自干扰形式,当用于暴露晶圆时会导致光强度不均匀,并最终导致局部剂量变化。通过称为脉冲展宽的光学技术增加脉冲持续时间,可以减少斑点,并导致较低的局部剂量变化,从而有助于降低CD变化和提高产量。

为了跟上芯片制造商的步伐’增加晶片产量,该光源还采用了新设计的5 生成室模块,使大批量晶圆厂在预定维护之间可以运行大约一年。该技术已在Cymer上进行了现场测试’现有的ArF浸没系统已使用了12个月以上,现已提供给Cymer’的客户群。此外,XLR 960ix包含的技术可通过减少自动校准和气体刷新事件来提高可用性,并通过降低功耗和气体消耗来提高可持续性。

XLR 960ix将于2020年第三季度交付给领先的芯片制造商。对最新一代ArF浸没平台的强劲需求正在推动生产这种新光源的最近历史上最快的量产之一。

资源: //www.cymer.com/

引文

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    Cymer,Inc.(2020, July 10). Cymer验证​​了浸没式光刻系统的新光源. AZoOptics. Retrieved on January 14, 2021 from //www.selec-iat.com/News.aspx?newsID=25129.

  • 司法协助

    Cymer,Inc."Cymer验证​​了浸没式光刻系统的新光源". AZoOptics. 14 January 2021. <//www.selec-iat.com/News.aspx?newsID=25129>.

  • 芝加哥

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  • 哈佛大学

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