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NIL Technology 推出准备大规模生产的平面 NIR Metalenses

NIL Technology (NILT),现代科技的领导者 光学解决方案,展示了平面光学领域的突破性性能。一个完整的 NIR 相机模块是使用 940 nm 单元透镜和 NIR 传感器构建的。演示器和客户特定的超透镜目前都在进行原型设计、运输,并为大规模生产做好准备。  

手机摄像头镜头

图片来源:javitrapero.com/Shutterstock.com

十多年来,用于智能手机和其他产品的相机镜头并没有发生革命性的变化。镜片仍然由多个笨重的折射镜片或相互堆叠的镜片元件制成。 NILT 的使命是通过显着降低这些镜头系统的尺寸和复杂性,为智能手机相机带来革命性的变化。

第一个演示是具有单个超表面的 940 nm 近红外 (NIR) 波长成像镜头,用于智能手机中的 3D 传感和面部识别以及汽车中的驾驶员监控。

单元透镜,我们将介绍为 1 M, 元光学元件 (MOE),在形式、性能、紧凑性和效率方面具有开创性。它验证了 MOE 相对于传统折射镜片的独特性。

  • 紧凑。 MOE 比折射镜片更平坦、更薄、更轻,具有之前未展示过的镜片简单性。
  • 优越的。 MOE 镜头具有明显更好的成像质量,具有宽视场、低 F 数、高 MTF 和高相对照度,所有这些都具有较低的总轨道长度。
  • 成本效益。 组装成本和集成复杂性将降低。
  • 稳健性。 玻璃基板上的硅可制成坚固、热稳定的镜片。

从设计到交付仅需四个星期

NILT 在高精度纳米结构方面拥有超过 15 年的经验,并将其应用于实现 MOE 的快速原型制作和批量生产。原型制作由高质量电子束光刻 (EBL) 确保,其周转时间比深紫外光刻 (DUV) 快得多。此外,EBL 提供超高分辨率并具有高度的设计自由度。大规模生产是通过纳米压印光刻 (NIL) 完成的,对元原子几何形状(尺寸、形状和位置)没有限制,确保实现最佳性能。此外,纳米压印光刻技术使 NILT 能够在不依赖半导体几何限制和处理能力的情况下进行批量生产。

定制 100 万个 MOE 的生产基于高专业知识和经过验证、验证和可靠的方法的组合。 NILT 是一家成熟的公司,拥有超过 1,500 份采购订单的经验。此外,我们已经制作了多年的定制原型。

NIL Technology 首席执行官兼创始人 Theodor Nielsen

NILT 正在设计、原型制作、组装和大规模生产超透镜。整个过程在内部完成。因此,NILT 的 MOE 可以大批量生产,从设计到原型交付仅需 4 周,并在不到两周的时间内进一步重新设计和周转。 NILT 设计的标准镜头今天已经发货。

有关用于 3D 传感和 LiDAR 的扁平多功能光学产品平台的光学性能技术规格,请参见 www.nilt.com/flat-nir-metalens-1m.

引文

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